기능
2026.1 새로운 기능
최신 업데이트 2026-10-07
주요 기능
플랫폼 제약 없는 GPU 시뮬레이션
Apple Silicon Mac의 네이티브 환경을 비롯해 모든 플랫폼에서 GPU 시뮬레이션을 기본으로 지원합니다. 부자재와 소프트바디를 포함한 모든 시뮬레이션 기능도 완벽하게 지원되어 더욱 빠르고 안정적인 시뮬레이션을 경험할 수 있습니다.
다른 기능
최신 업데이트 2026-10-07
OBJ | UV 유지
OBJ 파일을 의상으로 불러올 때 원본 UV와 재질 정보를 그대로 유지할 수 있습니다.
FBX와 glTF/GLB 파일 간 카메라 데이터를 호환하여 동일한 카메라 구도를 유지할 수 있습니다.
아바타의 블렌드 셰이프 값 변화를 애니메이션 키프레임으로 기록하여, 움직임이나 형태 변화를 자연스럽게 표현할 수 있습니다.
특정 그레이딩 사이즈를 선택하여 한 번에 렌더할 수 있습니다.
작업 중인 파일을 시간 순으로 자동 저장하여 원하는 시점으로 쉽게 복구할 수 있습니다.
원부자재 단위로 원가 정보를 관리하여 BOM 및 Tech Pack에 활용할 수 있습니다.
지퍼 테이프를 연장하여 곡선 또는 사선으로 마감된 끝부분을 벌어짐 없이 연결하고, 2D 창에서 재봉선과 내부선분을 직접 생성·편집할 수 있습니다.
패턴이 부착된 형태 및 위치를 세밀하게 조정할 수 있습니다.
끈을 끼운 후에 방향과 곡률을 조정하여 원하는 형태로 편집할 수 있습니다.
그래픽의 위치와 크기가 임의로 바뀌지 않도록 고정할 수 있습니다.
가방의 내부 공간을 측정하여 제품의 수납 용량을 미리 확인할 수 있습니다.
시뮬레이션 중 의상을 좌우 대칭으로 핀칭할 수 있습니다.
니트 스와치의 선택·편집·시뮬레이션 기능이 강화되어 더 정교하고 효율적으로 디자인할 수 있습니다.
패턴 정보 라벨을 자동으로 정렬하고, 플로터 출력 전에 최종 결과를 미리 확인할 수 있습니다.
DXF 파일을 불러올 때 너치를 패턴 외곽선, 시접 또는 두 위치 모두에 가져올 수 있습니다.
내부선분 한쪽 끝의 각도를 조절하여 자연스러운 접힘선을 표현할 수 있습니다.
원단별 생산용 수축률, 가로 방향 요척, 방향별 버퍼 설정, 수동 네스팅을 통해 더 유연하고 정교하게 네스팅 할 수 있습니다.
겹치는 영역을 기반으로 채우기, 자르기, 분할 옵션을 활용해 다양한 형태의 패턴을 만들 수 있습니다.
다양해진 코너 옵션과 함께 시접을 원하는 형태로 직접 편집할 수 있습니다.
아바타 사이즈에 맞춰 파라메트릭 패턴을 생성하고, 포켓·후드 등 디테일 블록을 추가하여 다양한 디자인으로 확장할 수 있습니다.
접힘선 규격만 입력하면 3D 의상을 원하는 형태로 자동으로 접을 수 있습니다.
신규 릴리즈
CLO Software
패치 노트
Update on 2026년 10월 7일, ver2026.1.310
수정
- UV Editor에서 zipper tape, teeth 선택 시 크래시 수정
- Modular에서 Block 생성 후 패턴 지정 시 크래시 수정
- AMD 그래픽카드를 사용하는 PC에서 아바타에 라인 생성 시 크래시 수정
- 사각형 메쉬로 구성된 대칭 패턴이 포함된 의상에서 랜더링 동작 시 크래시 수정
- Archive 상태의 패턴에 생성된 zipper를 two way로 변경 시 크래시 수정
- 그래픽을 내부 도형으로 trace 동작 시 뒤집힌 상태로 생성되는 문제 수정
- dxf 패턴을 회전해서 import 시 주석이 겹치는 문제 수정
- CLO에서 내보낸 dxf 파일을 외부 캐드 프로그램에서 import 시 일부 패턴이 노출되지 않는 문제 수정
- Offset으로 생성한 내부선분이 다른 그레이딩에서 왜곡되는 문제 수정
- Shrinkage 적용된 패턴으로 네스팅 동작 시 패턴 텍스처가 잘못된 라인까지 그려지는 문제 수정
- Final Render 동작 시 그래픽의 Tile 설정이 적용되지 않는 문제 수정
- 그레이딩 사이즈 변경 시 그래픽에 적용한 Tile 옵션이 해제되는 문제 수정
- 그레이딩 리뷰(2D) 에서 그래픽에 패턴이 가려지는 문제 수정
- Color Switch로 추가한 컬러웨이를 삭제해도 bake 이미지가 남아 있어서 의상 파일 용량이 커지는 문제 수정
- 마네킨 에셋 아바타의 포즈 변경 시 바닥에서 띄워진 상태로 변형되는 문제
- Pattern Drafter로 생성한 의상 저장 후 로드 시 POM이 정상적으로 나타나지 않는 문제 수정
- Front와 Back에 다른 map을 사용하는 원단으로 생성된 의상을 랜더링 동작 시 잘못된 결과가 나타나는 문제
- Archive 상태로 저장한 의상을 구 버전에서 로드 시 Deactivate로 나타나는 문제 수정
- 내부 선분에 zipper 생성 시 재봉으로 연결된 패턴으로 이어서 생성할 수 없는 문제
- 3D 화면에서 라인 길이가 표시되지 않는 문제 수정
- 퍼커링을 포함하여 저장한 의상 파일을 구 버전에서 로드 실패하는 문제 수정
Update on 2026년 8월 27일, ver2026.1.224
수정
- 구 버전의 macOS에서 GPU 시뮬레이션 동작 시 크래시 수정
- 패턴 내부의 Dart에 Seamline Rip 적용 시 크래시 수정
- 아바타 교체 후 그레이딩 사이즈 변경 시 아바타가 변형되는 문제 수정
- 스냅샷 저장 시 반투명한 패턴 뒤에 있는 아바타가 잘못 나타나는 문제 수정
- 사각형 메쉬로 변경한 일부 패턴에서 Flip Normal 기능이 동작하지 않는 문제 수정
- 대칭 패턴에서 시접의 코너 타입 변경 시 대칭으로 적용되지 않는 문제 수정
- 녹화된 애니메이션 재생 시 패턴에 Fray가 적용되지 않은 상태로 나타나는 문제 수정
- 일부 그래픽카드를 사용하는 PC에서 Print Layout 모드 진입 시 패턴과 외곽선이 분리되는 문제 수정
- pdf 파일로 스냅샷 저장 시 시접에 생성된 노치가 노출되지 않는 문제 수정
- 그레이딩이 적용된 패턴에서 너치의 거리 옵션 변경 시 정상적으로 동작하지 않는 문제 수정
Update on 2026년 8월 13일, ver2026.1.188
수정
- CLOFAB 기능 사용 중 Undo,Redo 동작 시 간헐적으로 프로그램이 종료되는 문제 수정
- 사용자가 편집한 csv 파일을 POM에서 로드 시 크래시 수정
- 일부 Substance 원단의 해상도 변경 시 크래시 수정
- 일부 아바타에서 플래트닝으로 패턴 생성 중 크래시 수정
- Pattern Drafter에서 T-shirt의 Set-In 생성 시 크래시 수정
- Pattern Drafter에서 Yoked 타입으로 생성 시 일부 재봉선이 뒤집히는 문제 수정
- 충돌처리 두께가 얇은 트림이 포함된 의상에서 시뮬레이션이 잘못 동작하는 문제 수정
- pdf로 내보내기 동작 시 그래픽 위치가 반전되는 문제 수정
- Print Layout 모드에서 pdf로 저장 시 그래픽 위치가 변경되는 문제 수정
- GPU 랜더링에서 원단의 노멀맵이 잘못 나타는 문제 수정
- GPU 랜더링에서 원단에 거칠기 맵이 잘못 나타나는 문제 수정
- Tile 설정된 그래픽이 랜더링에서 정상적으로 나타나지 않는 문제 수정
- 동일한 이름으로 스냅샷 저장 시 일부 이미지 파일이 삭제되는 문제 수정
- dxf 파일 로드 시 시접 너치가 잘못된 위치에 나타나는 문제 수정
- dxf 파일 로드 시 일부 패턴이 나타나지 않는 문제 수정
- rul 파일 적용 시 너치 그레이딩이 정상적으로 나타나지 않는 문제 수정
- 네스팅 정보에서 패턴 수가 원단 탭 별로 일치하지 않는 문제 수정
- 대칭라인에 셔링이 대칭으로 적용되지 않는 문제 수정
- Scale 변경 후 내보낸 fbx 파일 다시 불러올 시 축이 변경된 상태로 나타나는 문제 수정
- OBJ 파일 import 할 때 ‘Trace 2D Patterns from UV Map’ 옵션 적용 시 UV맵이 왜곡되는 문제